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儀器1:ESCALab250Xi 多功能X射線光電子能譜儀

儀器2:ESCALab220i-XL型X射線光電子能譜儀

儀器3:Niton XL3t 980

能量色散型X射線熒光分析儀

可進行SAXPS(小面積XPS)分析,分析面積在20至900微米范圍內可調;深度剖析(包括變角XPS和Ar+離子刻蝕);UPS(紫外光電子能譜),實現導電樣品能級結構分析以及材料逸出功測量;半原位XPS/UPS測試、低溫XPS測試(極限溫度可達-145K)以及高分辨XPS元素及化學態成像。主要應用于納米材料、催化化工、半導體、微電子、薄膜、太陽能、高分子聚合物、陶瓷、鋼鐵、金屬、生物及能源材料等領域。

220i-XL能譜儀可進行雙陽極Mg靶或Al靶的XPS分析;變角XPS(<10nm的深度剖析)。主要應用于納米材料、催化化工、半導體、微電子、薄膜、太陽能、高分子聚合物、陶瓷、鋼鐵、金屬、生物及能源材料等領域。

 

Niton XL3t X射線熒光分析儀可進行非真空條件下固體材料中雜質/痕量金屬元素的定性與半定量分析(分析范圍Mg~U間,檢測限為ppm級)。主要用于合金、礦物、土壤、文物、電子器件、鍍層、航空航天及環境分析等。

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