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FIB-SEM技術在維納米級單顆粒三維重構中的應用
發布時間:2019-01-31  |  【打印】 【關閉

FIB-SEM是聚焦離子束(Focused Ion beam,FIB)與掃描電子束(Scanning Electron Microscope, SEM)雙束系統,聚焦離子束可用于對樣品進行微加工,掃描電子束可用于樣品表面形貌微觀成像和“二維”表征分析,也能對FIB加工過程進行實時觀測,因此,FIB-SEM系統可實現對樣品進行定點蝕刻、沉積,截面切割、TEM電鏡樣品制備、微納器件制備、電路修復、三維結構表征等。分析測試中心電鏡室負責一臺FIB-SEM系統Helios NanoLab G3 CX的運行,根據所內科研工作需求,我們應用此臺FIB-SEM開展了定點刻蝕、沉積、TEM樣品制備及三維重構等工作,以下簡要介紹各項工作,重點介紹FIB-SEM技術在微納米級單顆粒三維重構中的應用。

 

詳情見http://www.cfdxbyy.com/doclist.action?chnlid=3657

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